一、简介
SEC-160#为新型的单液型酸性蚀刻液,具有控制简单、盐酸含量低、蚀速快、高溶铜的特点,药液有极优秀的稳定性,側蚀小。能适用于所有的酸性氯化铜蚀刻控制系统(包括多层板内层)。主要用于:
1.取代双氧水或氯酸盐,避免危险性。
2.取代三氯化铁,避免环境污染。
3.取代酸性蚀刻盐,简化控制方法、提高蚀刻的稳定性。
4.取代纯盐酸蚀刻,提高蚀刻的速度和质量。
在现行电路板行业中,传统蚀刻的方式有三氯化铁蚀刻, 盐酸蚀刻, 盐酸+再生剂(双氧水、蚀刻盐、氯酸盐液),氨水+蚀刻盐。其中氨水+蚀刻盐及盐酸+再生剂可用于自动添加系统,可适用于任何板子,因而是较普通的使用方式。
本公司从事蚀刻液的开发及生产多年,在吸收同行的经验的基础上,经反复试验,研制出新一代蚀刻药水—SEC-160#。该蚀刻液具有成分稳定,蚀铜高,蚀速快,污染少等优点,尤其是不含氧化剂、单液型、极易控制,可适用于一切酸性氯化铜蚀刻系统(含自动系统)使用。
成本核算 蚀铜120千克铜需 蚀铜120千克铜需
盐酸1000千克 SWE-260# 900-1000千克
双氧水(50%)100-200千克 用水,用电比双氧水约少10-20%
用电,用水 蚀刻速度比双氧水快10-20%
结论: 综上所述,SEC-160#环保型酸性蚀刻液是一种较理想的蚀刻药水。
二、操作条件:
铜离子 120-140克/公升
氯离子 160-180克/公升
温 度 40-500C
PH 值 0.5-1.5
波美度 24-28
三、使用方式及药液控制:
可自动或手动添加。
手动:先放掉1/5-1/4母液,然后加入同等量的补充液。
自动:将比重控制调节在25-27ºBe之间,较低的比重可得到较快的蚀刻速度。调节方法参照设备说明书。
配槽时按下列成份依次加入水中,固体物料须完全溶解:
组 成 | 浓 度 |
氯化铜 ( CuCl2•2H2O ) | 350-400g/L |
盐酸 (HCl)31% | 180-200ml/L |
SWE-260# | 280-300ml/L |
水 | 余 量 |
但是,在实际作业时,并不需要按上述方法配槽,而是使用现有的酸性氯化铜蚀刻废液(波美度不小于25度)添加SEC-160#,配成的工作液22-24波美度、SEC-160#添加量不少于20%即可。通常将该等蚀刻废液称为母液,各种酸性氯化铜的蚀刻废液(如盐酸-双氧水、盐酸-氯酸盐或盐酸-催化剂型的蚀刻废液)均可作为SEC-160#酸性蚀刻液的母液。
四、保养:
因SEC-160#酸性蚀刻液中盐酸浓度较低,对杂质的溶解力不如盐酸-双氧水型蚀刻液强,应尽量避免蚀刻液受污染。需每天清洗过滤网,同时留意喷嘴是否堵塞,蚀刻机15-30天清洗一次。
五、安全、储运:
本品具有腐蚀性,操作时需穿保护衣物及戴上手套。如不慎接触皮肤及眼睛,必须用大量清水冲洗,严重时要送医院治疗。
用密闭的塑料容器包装,贮存在无直射阳光的阴凉处。
六、故障及排除:
SEC-160#酸性蚀刻液相当稳定,在正常情况下仅需控制工作液的密度即可使蚀刻快速、稳定的进行。在控制不良时,其故障及排除方法如下:
1、 蚀刻速度变慢
通常是由于温度或喷淋压力过低造成。在上述条件正常情况下,则有可能是铜含量过高或过低。根据具体情况采用 1)补充SEC-160#降低密度至24ºBe。2)添加高浓度的母液或蚀刻废板至铜含量正常。
2、 工作液产生沉淀
可能是铜含量过高或盐酸含量不足。铜含量过高时还伴随蚀刻速度变慢、溶液粘度增加等现象,按前款之1)处理。盐酸含量不足可根据化验结果补充盐酸。
3、 板上出现不规则褐色斑块
这是盐酸含量不足所致。用稀盐酸溶液清洗,可发现斑块下是未被蚀刻掉的铜。产生这种现象,蚀刻液中盐酸含量仅有3-5%,需补充至7-8%。
4、 抗蚀剂被破坏
盐酸含量及温度过高,造成线路蚀刻不整齐(锯齿状)。
板子在用水洗时,残留在板上的工作液出现白色混浊(可被水洗去)属正常现象。
七、成本核算:
SEC-160#使用条件:
温度: 45-55℃
密度: 24-26ºBe
喷淋压力: 2.2-2.5Kg/cm2
蚀刻速度: 2M/Min
铜箔厚度: H/0
在上述条件下,每吨SEC-160#酸性蚀刻液(以含税价1200/吨计)可蚀铜板约1200M2,产生蚀铜废液1200Kg(以不含税价900/吨计),其材料成本如下式:(1*1200/1.17-1.2*900)/1200 = -0.045元/M2
如蚀铜废液不能售卖,本司可代为提供1:1的交换SEC-160#酸性蚀刻液服务。则其材料成本为零。
如SEC-160#使用条件改变,则其成本亦会改变。
03-03
SEC-066清洗剂
洗板水SEC-668#主要成分为二甲氧基甲烷、二氯甲烷和甲醇,具有优良的理化性能,即良好的溶解性、低沸点、与水相溶性好,能广泛应用于化妆品、药品、家庭用品、工业汽车用品、杀虫剂、皮革上光剂、清洁剂、橡胶工业、油漆、油墨等产品中,也由于它具有良好的去油污能力和挥发性,作为清洁剂可以替代F11和F113及含氯溶剂,因此
03-03
S-655显影剂
显影剂S-655#是一种专门应用于高品质要求的防焊油墨/线路干膜使用的显影剂,主要成分为高纯度的碳酸钾及溶纤剂、软水剂、非硅型消泡剂等高级原料。本品具有着优良的解析能力和极好的稳定性,使用寿命长等优点,因而广泛使用在生产高密度、细线路的HDI工艺中,作为碳酸钠溶液的取代品。本产品系列分为开缸剂S-655A、补充剂S-
03-03
158#软片清洁剂(无正己烷)
软片清洁剂SEC-158#是由低沸点溶剂组成的快干型除静电清洁剂,适用于各种银盐软片(黑菲林)、重氮软片(黄菲林)的清洁及除去静电。本品取代含有正己烷的软片清洁剂应用于印制板工业,以消除正己烷的神经毒性给使用者带来的危害。本品亦不含苯类毒性物质及破坏臭氧层的氟碳化合物。物化性质:本品为无色易燃易挥发液体,略
03-03
155#软片清洁剂(难燃型)
软片清洁剂SEC-155#是由低沸点溶剂组成的快干型除静电清洁剂,适用于各种银盐软片(黑菲林)、重氮软片(黄菲林)的清洁及除去静电。本品取代含有正己烷、正庚烷等的软片清洁剂应用于印制板工业,以消除正己烷的神经毒性给使用者带来的危害。本品不含苯类毒性物质,主要成分是卤代物,属于第6类有毒化学品。物化性质:本品为